保定眾鉑材料，高端實驗室材料生產、研發、銷售的綜合貿易公司，現提供氧化鎂。

    氧化鎂單晶基片廣泛應用在多個薄膜技術領域中。如用于制作磁學薄膜、半導體薄膜、光學薄膜和高溫超導薄膜等。由于 MgO 單晶在微波波段的介電常數和損耗都很小，且能得到大面積的基片（直徑 2 英吋及更大），所以是當前產業化的重要高溫超導薄膜單晶基片之一。 可用于制作移動通訊設備所需的高溫超導微波濾波器等器件。具有很大的現實及潛在應用市場。

主要性能參數

生長方法：弧熔法

晶體結構：立方

晶格常數：a=4.130 Å

熔點（℃）：2800

純度：99.95%

密度：3.58（g/cm3）

硬度：5.5（mohs）

熱膨脹系數（/℃）：11.2x10-6

晶體解理面：<100>

光學透過：>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm）

介電常數：ε= 9.65

熱導率（卡／度 厘米 秒）：0.14 300°K

尺寸：10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x15 mm

厚度：0.5mm，1.0mm

拋光：單面或雙面

晶向：<001>±0.5º 晶面定向精度: ±0.5°

邊緣定向精度： 2°（特殊要求可達 1°以內）

斜切晶片：可按特定需求，加工邊緣取向的晶面按特定角度傾斜（傾斜角 1°－45°）的晶片。

Ra:：≤5Å（5µm×5µm）

主要特點：由于 MgO 單晶在微波波段的介電常數和損耗都很小，且能得到大面積的基片（直徑 2 英吋及更大），所以是當前產業化的重要高溫超導薄膜單晶基片之一。

主要用途：用于制作磁學薄膜、半導體薄膜、光學薄膜和高溫超導薄膜等, 也可用于制作移

動通訊設備所需的高溫超導微波濾波器等器件。

包裝：100 級潔凈袋，1000 級超凈室

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